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武漢紅外 溫度傳感器工藝

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即溫度傳感器的輸出導線與鋁層連接以通過鋁層與金屬鉑層連接。上述鉑熱電阻傳感器,利用金屬鉑在溫度變化時自身電阻值也會隨著溫度改變的特性來測量溫度,溫度傳感器的輸出端子與顯示儀表連接,顯示儀表會顯示受溫度影響得到的鉑電阻對應的溫度值。在一實施例中,因上述熱電阻傳感器中上層有金屬結構如金屬鋁和金屬鉑,對于直接暴露在空氣中時容易氧化的金屬層,其上還形成有一層鈍化層,可對金屬層進行保護。同時,需要在對應溫度傳感器引出端子處開設有通孔,通過通孔可引出輸出端子。在本實施例中,是在兩端的金屬鋁上方的鈍化層開設有通孔。鈍化層可為氧化硅層或氮化硅層,也可為疊設的氧化硅層和氮化硅層。在一實施例中,測溫單元為一熱電偶傳感結構,包括:多晶硅層,包括并排且間隔設置的n型多晶硅條和p型多晶硅條;和第三金屬層。第三金屬層包括位于相鄰多晶硅條之間的金屬結構,n型多晶硅和p型多晶硅通過金屬結構串聯(lián),第三金屬層還包括位于多晶硅層外側兩端的第二金屬結構,用于引出溫度傳感器的輸出端子。如圖和圖所示,氧化硅薄膜上形成有一層多晶硅層。該多晶硅層包括并排且間隔設置的n型多晶硅條和p型多晶硅條。溫度傳感器哪家服務好?認準深圳市美信美科技有限公司。武漢紅外 溫度傳感器工藝

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p型多晶硅可為在多晶硅內(nèi)部摻雜ⅲ族元素形成導電類型為p型的多晶硅,且其內(nèi)部摻雜均勻。n型多晶硅條和p型多晶硅條形狀相同,在本方案中,n型多晶硅條和p型多晶硅條為長條型,多晶硅條平行設置,具有相同的間距。步驟s135:在多晶硅層上淀積第三金屬層,第三金屬層包括位于相鄰多晶硅條之間的金屬結構,n型多晶硅條和p型多晶硅條通過金屬結構串聯(lián),第三金屬層還包括位于多晶硅層外側兩端的第二金屬結構,用于引出溫度傳感器的輸出端子。繼續(xù)參見圖5和圖6,在多晶硅層50上淀積第三金屬層60,第三金屬層60包括金屬結構61和第二金屬結構62。金屬結構61位于相鄰多晶硅條之間以連接該多晶硅條,具體為位于相鄰多晶硅條端部位置,所有n型多晶硅條51和p型多晶硅條52通過該金屬結構61形成一串聯(lián)結構,因此,當具有m個多晶硅條時,需要m-1個金屬結構61使多晶硅條串聯(lián)起來。一個n型多晶硅條與一個p型多晶硅條串聯(lián)形成一個塞貝克(seebeck)結構,在本方案中,是多個塞貝克結構串聯(lián)形成一個測溫單元,因此,m需為偶數(shù)。第二金屬結構62淀積于多晶硅層外側的兩端,以便于引出溫度傳感器的輸出端子。在本實施例中,第三金屬層60為金屬鋁層。上述熱電偶傳感結構,利用半導體兩端的溫度不同時。上海NTC溫度傳感器報價進口的德州溫度傳感器,就找深圳美信美科技。

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上述溫度傳感器制備方法,可以得到氧化硅薄膜,且氧化硅薄膜與硅通過空腔隔離,空腔下方的硅不會影響上方氧化硅薄膜的隔離效果,因此無需通過深槽刻蝕工藝將多余的硅刻蝕掉,簡化了制備過程,節(jié)約制備時間,節(jié)省了制備成本。由于氧化硅薄膜導熱率低,將測溫單元制備在氧化硅薄膜上,具有較好的測溫效果,使溫度傳感器性能更加穩(wěn)定。本發(fā)明還涉及一種溫度傳感器,包括:基底,基底包括硅片和在硅片上形成的氧化硅薄膜,硅片和氧化硅薄膜之間形成有空腔;和測溫單元,測溫單元形成于所述空腔上方的氧化硅薄膜上,所述測溫單元用于感測環(huán)境溫度。如圖2c所示,基底包括硅片20和氧化硅薄膜23,硅片20和氧化硅薄膜之間形成有空腔22。測溫單元是溫度傳感器的工作單元,溫度傳感器通過該測溫單元感知溫度后形成電信號并輸出,在本方案中,測溫單元形成于氧化硅薄膜23上且位于空腔上方。在一實施例中,測溫單元為一熱電阻傳感結構,包括:金屬層,金屬層為金屬鉑層,金屬鉑層呈連續(xù)弓字形結構;和第二金屬層,位于金屬鉑層外側兩端,用于引出溫度傳感器的輸出端子。如圖3和圖4所示,氧化硅薄膜23上淀積有一層金屬層30,該金屬層30為金屬鉑層,即熱電阻傳感結構選用鉑熱電阻。

在一實施例中。深圳市美信美科技有限公司于2020年04月17日成立。公司經(jīng)營范圍包括:一般經(jīng)營項目是:電子產(chǎn)品及其配件的技術開發(fā)與銷售;國內(nèi)貿(mào)易等。本公司主營推廣銷售AD(亞德諾),LINEAR(凌特)以及TI、MAXIM、NXP等國際品牌集成電路。產(chǎn)品廣泛應用于:汽車、通信、消費電子、工業(yè)控制、醫(yī)療器械、儀器儀表、安防監(jiān)控等領域。本公司一直秉承優(yōu)勢服務,誠信合作的原則。以現(xiàn)代化管理以及優(yōu)勢的渠道價格、良好的信譽與廣大客戶建立了長期友好的合作關系,為廣大廠商和市場客戶提供優(yōu)勢的產(chǎn)品服務??梢詫囟葌鞲衅鲀奢敵龆俗幼鳛槔涠饲冶3掷涠藴囟群愣?,將串聯(lián)的多晶硅層作為熱端感測實際環(huán)境溫度,當環(huán)境溫度發(fā)生變化時,冷端和熱端的溫差發(fā)生變化,因此冷端的電勢會發(fā)生變化,與顯示儀表連接后,顯示儀表會顯示熱電偶受當前環(huán)境溫度影響得到的電勢所對應的熱端溫度,即當前環(huán)境溫度。通常,形成測溫單元還包括鈍化步驟,即,步驟s:在金屬層上形成鈍化層,并在鈍化層上對應溫度傳感器引出輸出端子處設有通孔。因上述熱電偶傳感器中上層有金屬結構如金屬鋁層,對于直接暴露在空氣中時容易氧化的金屬層,其上還形成一層鈍化層,可對金屬結構進行保護。同時。買溫度傳感器,認準深圳美信美科技有限公司。

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利用金屬鉑在溫度變化時自身電阻值也會隨著溫度改變的特性來測量溫度,溫度傳感器的輸出端子與顯示儀表連接,顯示儀表會顯示受溫度影響得到的鉑電阻對應的溫度值。通常,形成測溫單元還包括鈍化步驟,即,步驟s133:在金屬層上形成鈍化層,并在鈍化層上對應所述溫度傳感器引出輸出端子處設有通孔。因上述熱電阻傳感器中上層有金屬結構如金屬鋁和金屬鉑,對于直接暴露在空氣中時容易氧化的金屬層,其上還形成一層鈍化層,可對金屬層進行保護。同時,需要在對應溫度傳感器引出端子處開設通孔,通過通孔可引出輸出端子。在本實施例中,是在兩端的金屬鋁上方的鈍化層開設通孔。鈍化層可為氧化硅層或氮化硅層,也可為疊設的氧化硅層和氮化硅層。在一實施例中,測溫單元為一熱電偶傳感結構,其具體形成過程為:步驟s134:在所述氧化硅薄膜上淀積一層多晶硅層,所述多晶硅層包括并排且間隔設置的n型多晶硅條和p型多晶硅條。如圖5和圖6所示,在氧化硅薄膜23上淀積一層多晶硅層50,該多晶硅層50包括并排且間隔設置的n型多晶硅條51和p型多晶硅條52。n型多晶硅可為在多晶硅內(nèi)部摻雜ⅴ族元素形成導電類型為n型的多晶硅,且其內(nèi)部摻雜均勻。溫度傳感器現(xiàn)貨廠家,美信美科技就是牛。珠海雙極型溫度傳感器精度哪家好

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